据digitimes报道，业内消息称，台积电已经向ASML公司下了2021年至少13台EUV光刻设备的订单。

　　台积电近日公布10月营收为1193.03亿元新台币（单位下同），月增减少6.5%，年增12.5%。前10月合并营收为1兆970.24亿元，年增27.7%。台积电第三季度营收为3564.3亿元，季增14.7%，年增21.6%，创历史新高。税后净利润1373.1亿元，季增13.6%，年增35.9%；每股纯益5.3元，再创历史新高。

　　关键字：EUV引用地址：传台积电向ASML下单，明年订购最少13台EUV光刻机

　　半导体设备材料大厂家登29日召开股东会，董事长邱铭干表示，2017年半导体产业表现亮眼，澳门新葡澳京平台营收、设备及硅晶圆出货金额都创下历史新高，近年大陆喊出智能制造2025大战略，投资新建许多的8英寸及12英寸晶圆厂，强劲带动半导体产业资本支出扩张，再加上5G、挖矿热潮、区块链等数位金融的兴起，这些新技术都需要建构在高端纳米级芯片上的技术持续深耕才具有可行性，都让未来半导体产业发展可期，家登受惠两岸12英寸厂晶圆新产能开出，12英寸前开式晶圆传送盒(300mm FOUP)大单陆续落袋，加上极紫外光光罩盒(EUV POD)已获ASML认证，第2季少量出货，下半年陆续放量，业绩可望逐季回升，全年应可缴出获利成绩，2019年业绩跃升可期。   200

　　欧洲半导体设备业龙头艾司摩尔(ASML Holding NV)22日发布新闻稿宣布，美国某大客户已经下单，至少会订购15台极紫外光(EUV)微影设备，以便支援日益增多的研发作业和未来世代制程技术的试产方案。 ASML宣称，最初两台NXE:3350B EUV系统预计今(2015)年底前就能交货，这些设备将加入客户自身已有的EUV研发系统行列。ASML执行长Peter Wennink说，EUV微影设备已接近大量普及的阶段。 费城半导体指数成分股ASML 22日闻讯跳涨10.29%、收107.81美元，涨幅居30支成分股之冠，创3月24日以来收盘新高。 彭博社报导，英特尔(Intel Corp.)是ASML在美国的最大客户。I

　　台积电目前已采购 35 台 EUV 设备，占 ASML 过半产量，2021 年底采购总量将超过 50 台。相较之下，三星 EUV 设备采购量目前不到 20 台。 此前，EUV 光刻机制造商 ASML 首席执行官 Peter Wennink 带领高管拜访三星，双方寻求技术与投资合作。三星希望能抢在台积电之前，澳门新葡澳京平台取得 ASML 下一代 EUV 设备供应。 业内人士分析称，三星积极追赶台积电，不过台积电在高良率与低功耗方面拥有优势。7nm 制程方面，台积电先推出 FinFET 架构的 7nm 技术，再推出使用 EUV 的 N7+制程。5nm 方面，三星与台积电仍有二成产能的差距。 台积电加速先进制程推进，累计 EUV 光刻机至

　　当ASML的EUV光刻机还在为制造2nm、1nm芯片发愁的时候，美国公司却在另一个先进光刻方向上取得了突破，Zyvex使用电子束光刻技术制造了768皮米，也就是0.7nm的芯片，这种芯片可用于量子计算机。 Zyvex推出的光刻系统名为ZyvexLitho1，基于STM扫描隧道显微镜，使用的是EBL电子束光刻方式，制造出了0.7nm线宽的芯片，这个精度是远高于EUV光刻系统的，相当于2个硅原子的宽度，是当前制造精度最高的光刻系统。 这个光刻机制造出来的芯片主要是用于量子计算机，可以制造出高精度的固态量子器件，以及纳米器件及材料，对量子计算机来说精度非常重要。 ZyvexLitho1不仅是精度最高的电子束光刻机，而且还是可

　　集微网消息，晶圆代工之战，7nm制程预料由台积电胜出，4nm之战仍在激烈厮杀。 Android Authority报道称，三星电子抢先使用极紫外光(EUV)微影设备，又投入研发能取代「鳍式场效晶体管」(FinFET)的新技术，目前看来似乎较占上风。 Android Authority报导，制程不断微缩，传统微影技术来到极限，无法解决更精密的曝光显像需求，必须改用波长更短的EUV， 才能准确刻蚀电路图。澳门新葡澳京平台 5nm以下制程，EUV是必备工具。 三星明年生产7nm时，就会率先采用EUV，这有如让三星在6nm以下的竞赛抢先起跑，可望加快发展速度。 相较之下，台积电和格罗方德的第一代7nm制程，仍会使用传统的浸润式微影技术，第二代才会使用EU

　　在台积电 2021 线上技术研讨会期间，高级运营副总裁 YP Chin 披露了与该公司芯片制造能力相关的重要进展。据悉，目前台积电拥有全球将近一半的极紫外光刻（EUV）机器，并且承担了全球先进硅晶圆制程的半数以上产能。此外，YP Chin 还介绍了台积电的 3nm 和 2nm 制造设施，以及规划中的美国亚利桑那州园区的最新进展。 资料图（来自：TSMC） 会上，YP Chin 首先强调了台积电的先进制程产能有望保持 30% 的复合年增长率（CAGR），并且从 16nm 和 7nm 一路介绍到了当前最新的 5nm 工艺。 按照计划，台积电有望在 2021 年底将 N7 产能提升至 2018 年的四倍，且 N5 产能也

　　领先份额 2nm晶圆工厂将在新竹开建 /

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